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摘要:
利用光刻技术和湿法刻蚀技术制备ITO透明电极,借助视频显微仪和台阶仪观测电极形状和表面形貌.比较了不同溶液的刻蚀效果,指出采用盐酸加三氯化铁溶液刻蚀效果最佳,分别讨论了HCl含量和ReCl3含量变化对ITO膜刻蚀速率的影响.最后指出在25士2℃的环境下,刻蚀液HCl、H20和FeCl3·6H2O的配比满足3 L:1 L:(20~30 g)时,ITO膜的刻蚀速率能达到1 nm/s,所制备的透明电极边缘整齐无钻蚀,适合于制备平板显示器中的透明精细电极.
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文献信息
篇名 平板显示器中ITO透明电极制备的研究
来源期刊 液晶与显示 学科 物理学
关键词 平板显示器 ITO透明电极 湿法刻蚀
年,卷(期) 2008,(1) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 16-20
页数 5页 分类号 O484.1
字数 2815字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-2780.2008.01.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭太良 福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所 302 1102 15.0 21.0
2 张永爱 福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所 57 199 8.0 11.0
3 姚亮 福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所 7 48 4.0 6.0
4 雷晓阳 福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所 2 12 2.0 2.0
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研究主题发展历程
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ITO透明电极
湿法刻蚀
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研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
液晶与显示
月刊
1007-2780
22-1259/O4
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-203
1986
chi
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21631
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