大气和真空等离子喷涂钨涂层比较研究

• 作者: 丁传贤 季珩 牛亚然 胡德扬 郑学斌 黄利平
• 来源期刊: 有色金属（冶炼部分）
• 学科: 工学
• 关键词: W涂层 真空等离子喷涂 大气等离子喷涂 抗热冲击性能 氧化现象 热导率
• 年，卷（期）: 2008,（z1）
• 所属期刊栏目: 涂层的制备及性能
• 页码范围: 57-60
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.2
• 字数: 2456字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7545.2008.z1.017

摘要

应用大气和真空等离子喷涂技术制备钨涂层,对涂层形貌、氧含量、热导率、结合强度以及抗热冲击性能进行比较研究.研究结果表明,大气喷涂W涂层存在明显的氧化现象,而真空喷涂W涂层几乎没有发生氧化.与大气喷涂W涂层相比,真空喷涂W涂层具有更为致密的显微结构和较少的氧化物杂质.从而具有较高的热导率,与基体的结合也更加良好.通过高能电子束辐照实验,对涂层的抗热冲击性能进行考察,结果表明真空等离子喷涂W涂层具有较好的抗热冲击性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑学斌	中国科学院上海硅酸盐所	52	489	12.0	20.0
2	丁传贤	中国科学院上海硅酸盐所	55	1092	19.0	32.0
3	黄利平	中国科学院上海硅酸盐所	12	52	4.0	6.0
4	季珩	中国科学院上海硅酸盐所	19	137	7.0	11.0
5	胡德扬	中国科学院上海硅酸盐所	1	4	1.0	1.0
6	牛亚然	中国科学院上海硅酸盐所	10	35	3.0	5.0