真空室压力对低压等离子喷涂成形钨靶材显微组织及性能的影响

• 作者: 唐求豪 王芬 王跃明 闫志巧
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 低压等离子喷涂 钨靶材 显微组织 力学性能 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 104-112
• 页数: 9页
• 分类号: TG146.4+12
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2017.001120

摘要

采用低压等离子喷涂成形技术制备片状及回转体钨靶材,分析真空室压力对钨靶材致密度、氧质量分数、微观结构、显微硬度及抗拉强度等性能的影响,并对片状钨靶材的磁控溅射镀膜进行研究.结果表明:随着真空室压力由1.3×104 Pa增大至3.9×104 Pa,钨粉充分熔化铺展,未熔W颗粒减少,钨靶材氧含量稍有提高,致密度,显微硬度和抗拉强度分别增大至97.2％,377.8HV0.025及201.1MPa.然而,当真空室压力进一步增大至6.5×104 Pa后,钨靶材层片结合界面形成絮状的W3O夹杂层,氧含量增大至0.71％,其各项性能反而有所降低.低压等离子喷涂成形片状钨靶材(3.9×104pa真空室压力)可磁控溅射沉积出平整、致密、连续的钨薄膜,镀膜厚度约为300nm.XRD结果表明,钨薄膜为体心立方结构,沿(110)方向择优生长.磁控溅射离子的均匀轰击导致钨靶材表面快速溅射及均匀减薄,溅射表面及截面较为平整、光滑,溅射凹坑接近纳米级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王跃明	湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室	9	16	2.0	3.0
2	唐求豪	湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室	3	2	1.0	1.0
3	闫志巧	广东省材料与加工研究所广东省金属强韧化技术与应用重点实验室	3	2	1.0	1.0
4	王芬	华南理工大学国家金属材料近净成形工程技术研究中心	12	50	4.0	7.0