原子层沉积二氧化硅法对化学镀镍层耐蚀性的影响

• 作者: 孙武德 张吉军 逢诗超 韩霞
• 来源期刊: 黑龙江八一农垦大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积 化学镀镍 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 84-87
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.45
• 字数: 1917字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2090.2008.02.022

摘要

在化学镀镍的基础上,采用原子层沉积二氧化硅法对镀镍层进行后处理,从而研究此种工艺方法对消除镀镍后产生的微孔,提高试样耐蚀性的效果.结果表明,在工艺参数选择的合适条件下,此工艺法可有效提高试样耐蚀性能.并利用光学显微观察、XRD分析等方法研究此工艺对镀层组织结构和耐蚀性影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩霞	黑龙江八一农垦大学工程学院	39	153	7.0	10.0
2	张吉军	黑龙江八一农垦大学工程学院	42	242	8.0	13.0
3	孙武德	黑龙江八一农垦大学工程学院	1	0	0.0	0.0
4	逢诗超		1	0	0.0	0.0