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Modification of Optical Films Induced by 94 MeV Bandgap of Thin Silicon Xe Ion Irradiation
Modification of Optical Films Induced by 94 MeV Bandgap of Thin Silicon Xe Ion Irradiation
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摘要：
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Adsorption characteristics of copper ion on nanoporous silica
Nanoporous silica
Copper ion
Adsorption
Xe23+离子辐照Al2O3的光谱特性
Xe23+离子
Al2O3
重离子辐照
光致发光谱
7.0 MeV的Xe30+入射Au靶引起Xe L、M壳层电子的多重激发
离子动能
空穴
X射线能量
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文献信息
| 篇名 | Modification of Optical Films Induced by 94 MeV Bandgap of Thin Silicon Xe Ion Irradiation | ||
| 来源期刊 | 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 氙离子辐照 辐照诱导 硅薄膜 MEV 光学薄膜 改性 能带 光学带隙 | ||
| 年，卷（期） | 2008,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 66 | |
| 页数 | 1页 | 分类号 | O571.6 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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中国科学院近代物理研究所和兰州重离子研究装置年报：英文版
主办单位：
Atomic
Energy
Physics
出版周期：
年刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
兰州市城关区南昌路509号
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