聚苯乙烯一维纳米阵列的图案化

• 作者: 姜宁 宋国君 彭智 王树龙 邵增军
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外光 苯乙烯 一纳米结构 光刻胶 图案化模板
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1890-1893
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 3179字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.11.035

摘要

采用紫外线光刻技术在阳极氧化铝模板(AAO)上生成预设图案,用物理浸润的方法在图案化的模板上生长聚苯乙烯,最后用NaOH和磷铬酸溶液分别溶解模板.采用扫描电子显微镜(SEM)和电子能谱(EDS)分析.结果表明,制备的图案是直径5μm的圆形组成,圆形图案中心之间距离是10μm,每个圆中长满一维纳米阵列,其纳米特性没有变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋国君	青岛大学高分子材料研究所	171	1471	19.0	28.0
2	彭智	青岛大学高分子材料研究所	28	109	6.0	8.0
3	王树龙	青岛大学高分子材料研究所	10	39	4.0	5.0
4	姜宁	青岛大学高分子材料研究所	5	12	2.0	3.0
5	邵增军	青岛大学高分子材料研究所	4	13	2.0	3.0