紫外ICCD面均匀性测试技术研究

• 作者: 周跃 曹健林 杨怀江 赵玉环 闫丰 隋永新
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外ICCD 标准氘灯 面均匀性
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 光学成像与图像处理
• 页码范围: 886-888,891
• 页数: 4页
• 分类号: TN23|O434.12
• 字数: 2518字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2008.06.024

摘要

以辐射度学为理论基础,研究了紫外ICCD(UV-ICCD)面的响应均匀性测试技术.论述了200～300nm UV-ICCD面均匀性的测试方案.使用入射口径为100μm的光谱仪对UV-ICCD靶面处的均匀性进行了测试.测试结果表明,靶面处辐照度场的不均匀性不高于1.6%.在对靶面处的均匀性进行测试的基础上,对UV-ICCD面的均匀性进行了实际测量,并进行了不确定度分析.结果表明,该方案可应用于UV-ICCD光电探测器件的面均匀性测量.