光纤的大长度轴向侧面抛磨实验及理论分析

• 作者: 姜彬 裴丽 赵瑞峰 魏环
• 来源期刊: 光电技术应用
• 学科: 工学
• 关键词: 轴向侧面抛磨 标量分析法 LΡ01模的传输常数 功率限制因子
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 光电工程系统技术
• 页码范围: 5-7,13
• 页数: 4页
• 分类号: TN253
• 字数: 3015字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1255.2008.04.002

摘要

在光器件的制作中,应用接近纤芯内部或附近传播的光场,常以光纤的轴向侧面抛磨为实现方法.目前小长度的光纤研磨技术已趋于成熟,但大长度的研磨仍为一技术难点.理论分析了光纤研磨的特性;实现了光纤的大长度研磨实验,并比较了实验结果与理论结果:二者变化规律基本相同;研磨精度可控,长度可选,最长可达十几厘米;在给定光纤参数下,得出光纤研磨的适宜深度范围为51.42～57.8 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	裴丽	北京交通大学全光网与现代通信网教育部重点实验室光波技术研究所	92	929	14.0	27.0
2	赵瑞峰	北京交通大学全光网与现代通信网教育部重点实验室光波技术研究所	17	61	6.0	7.0
3	姜彬	北京交通大学全光网与现代通信网教育部重点实验室光波技术研究所	3	9	2.0	3.0
4	魏环	北京交通大学全光网与现代通信网教育部重点实验室光波技术研究所	1	3	1.0	1.0