微型空腔化学镀铜工艺研究

• 作者: 万小波 任洪波 周兰 张伟 肖江
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 惯性约束聚变(ICF) 化学镀 有机玻璃 空腔 铜
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 26-27
• 页数: 2页
• 分类号: TG172.6
• 字数: 1886字
• 语种: 中文

摘要

介绍了采用有机玻璃(聚甲基丙烯酸甲酯,PMMP)作基底,对施镀表面进行催化活化处理,沉积的铜再产生自身钝化作用而得到一定厚度的铜层制备微型铜空腔的工艺.讨论了化学镀液的主要成分对镀速及镀层质量的影响.结果表明,由此工艺所制备的铜层壁厚范围在10～30μm,长度在2mm左右,镀层铜含量大于95%,为制备惯性约束聚变(ICF)金属腔靶提供了一种新方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任洪波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	48	285	10.0	13.0
2	万小波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	174	9.0	12.0
3	张伟	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	26	104	5.0	9.0
4	周兰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	24	136	7.0	10.0
5	肖江	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	14	76	5.0	8.0