整体式空腔Cu靶的化学镀制备工艺

• 作者: 万小波 付渠 刘继光 周兰 肖江
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 惯性约束聚变 Cu靶 化学镀 表面钝化
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 77-79
• 页数: 3页
• 分类号: TL503.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2005.01.017

摘要

对整体式空腔Cu靶的化学镀制备工艺和靶表面抗腐蚀处理进行了研究.选用有机玻璃(PMMA)作芯铀,对芯轴表面活化处理,在芯轴表面化学镀Cu,再用苯骈三氮唑(C6H5N3)溶液钝化处理Cu靶表面,溶蚀芯轴,最终获得整体式空腔Cu靶.该法工艺简单,制备费用较低,对惯性约束聚变研究所需其它金属或合金空腔靶的制备具有较高的参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付渠	西南科技大学制造学院	4	6	2.0	2.0
2	刘继光	西南科技大学制造学院	52	298	10.0	14.0
3	万小波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	174	9.0	12.0
4	周兰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	24	136	7.0	10.0
5	肖江	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	14	76	5.0	8.0