空腔Cu靶的化学镀制备方法及其特性

• 作者: 万小波 付渠 刘继光 周兰 宋红文 肖江
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 惯性约束聚变(ICF) 空腔靶 化学镀Cu 抗氧化处理
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1271-1273
• 页数: 3页
• 分类号: TL62
• 字数: 1729字
• 语种: 中文

摘要

在预处理芯轴(基体)表面金属的催化作用下,通过镀液可控制的还原反应在芯轴表面不断产生金属Cu的化学沉积,然后刻蚀掉芯轴,经Cu层表面钝化处理而得到空腔Cu靶.对Cu靶的表面形貌、孔隙率、厚度及其均匀性、Cu靶纯度、耐氧化性能等进行了测试与分析,实验结果表明,所测各项数据达到Cu靶ICF应用的性能指标.化学镀方法为制备其它金属或合金空腔靶提供了新的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付渠	西南科技大学制造学院	4	6	2.0	2.0
2	刘继光	西南科技大学制造学院	52	298	10.0	14.0
3	宋红文	西南科技大学制造学院	27	86	6.0	8.0
4	万小波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	174	9.0	12.0
5	周兰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	24	136	7.0	10.0
6	肖江	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	14	76	5.0	8.0