空腔铜靶的化学镀制研究

• 作者: 万小波 周兰 张林 肖江
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀铜 镀速 镀液稳定性
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1373-1376
• 页数: 4页
• 分类号: TQ15
• 字数: 1955字
• 语种: 中文

摘要

介绍了在预处理芯轴(聚甲基丙烯酸甲酯)表面采用化学镀的方法制备铜空腔的技术,研究了镀液中硫酸铜含量、甲醛含量,镀液pH值、温度等对化学镀铜沉积速率和溶液稳定性的影响.根据实验确定了适宜的化学镀铜工艺规范:硫酸铜质量浓度10～20 g/L,TART·K·Na质量浓度10～30 g/L,EDTA*2Na质量浓度10～28 g/L,甲醛体积浓度10～25 mL/L,添加剂质量浓度10 mg/L,pH值12～13,温度35～65 ℃.通过该工艺制备出的镀层厚度达到10～25 μm,均匀性达到95%,表面无砂眼、裂纹等缺陷,刻蚀芯轴后空腔能自持.该方法为ICF研究制备金属或合金材料靶提供了新的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张林	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	233	1406	18.0	25.0
2	万小波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	174	9.0	12.0
3	周兰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	24	136	7.0	10.0
4	肖江	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	14	76	5.0	8.0