脉冲激光沉积(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4)0.2薄膜及其多铁性能研究

• 作者: 姚凯伦 戴能利 李享成 杨光 陆培祥 陈爱平 龙华
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多铁薄膜 外延生长 脉冲激光沉积 漏电流
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 897-901
• 页数: 5页
• 分类号: O48|TM28
• 字数: 3643字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.05.007

摘要

采用脉冲激光沉积法,在(100)SrTiO3基底上,制备了(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4)0.2(LBFO-NFO)多铁薄膜,通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了LBFO-NFO多铁薄膜的显微结构,通过标准铁电测试系统(RT-66A)和振动样品磁强计(VSM)分别测试了LBFO-NFO多铁薄膜的铁电性能和铁磁性能.研究发现:多铁薄膜中LBFO和NFO二相均沿(100)方向外延生长,晶粒尺寸在100-150nm之间;薄膜具有明显的电滞回线(Ps=7.6μC/cm2)和磁滞回线(Ms=4.12×104A/m),显示出明显的铁电铁磁共存特性.通过对薄膜生长条件的控制,可削除杂质相,减小LBFO-NFO薄膜的漏电流,提高铁电及铁磁性能.