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摘要:
采用微弧氧化设备,在电压410 V、Na2SiO3浓度80 g/L、电流10 A、氧化时间12 min条件下,在纯Al表面获得了厚度为22 μm的陶瓷膜层.采用X射线衍射及扫描电镜并结合能谱仪研究了膜层的相组成、形貌及化学成分;分析了膜层相组成的形成机制.研究表明:膜层表面凸凹不平,它由膜层基体和大量的孔洞组成,主要包含O、Si、Al元素.组成相包含非晶相和晶相,非晶相包含SiO2和Al2O3,晶相为Al相.膜层的粗糙度为2.0 μm,显微硬度为2 200 HV,绝缘电阻值为5 MΩ.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 纯铝微弧氧化陶瓷层的相组成及性能
来源期刊 轻合金加工技术 学科 工学
关键词 纯铝 微弧氧化 非晶相 显微硬度
年,卷(期) 2008,(8) 所属期刊栏目 表面处理工艺与设备
研究方向 页码范围 38-40
页数 3页 分类号 TG174.45
字数 1562字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-7235.2008.08.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 金光 沈阳理工大学材料科学与工程学院 31 153 8.0 11.0
2 熊伟 沈阳理工大学材料科学与工程学院 5 14 2.0 3.0
3 李玉海 沈阳理工大学材料科学与工程学院 66 449 12.0 17.0
4 张罡 沈阳理工大学材料科学与工程学院 104 425 11.0 13.0
5 姚俊 沈阳理工大学材料科学与工程学院 55 291 10.0 13.0
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轻合金加工技术
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1007-7235
23-1226/TG
大16开
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14-112
1964
chi
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