钛合金表面TiAlN膜层的制备

• 作者: 刘常升 张希川 张春华 张松 杨舒宇 芦伟
• 来源期刊: 沈阳工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ti6Al4V合金 TiAlN合金 薄膜 多弧离子镀 膜基硬度比
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 525-529
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 4267字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1646.2008.05.010

摘要

为了研究不同偏压对TiAlN薄膜性能的影响以及薄膜体系膜基硬度比随载荷的变化关系,采用多弧离子镀的方法在Ti6Al4V合金表面制备TiAlN薄膜,利用扫描电子显微镜、x-射线衍射仪、全自动显微硬度计等设备对膜层的微观组织结构和力学性能进行了测试.结果表明,TiAlN膜层由Ti2AlN(hcp)相组成.在恒定载荷条件下,体系的膜基硬度比随载荷的增加而减小.当载荷小于300 g时,偏压对膜基硬度比与载荷关系曲线呈不规则影响.载荷超过300 g以后,几乎没有影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘常升	东北大学材料与冶金学院	252	2803	27.0	39.0
2	张希川	沈阳工业大学材料科学与工程学院	39	225	9.0	14.0
3	张春华	沈阳工业大学材料科学与工程学院	56	1020	18.0	31.0
7	张松	沈阳工业大学材料科学与工程学院	58	1016	18.0	30.0
8	芦伟	沈阳工业大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
9	杨舒宇	沈阳工业大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0