酞菁材料光限幅器件的优化

• 作者: 刘大军 杨洪军 陈立新
• 来源期刊: 长春理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 光限幅 酞菁 优化
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 108-110
• 页数: 3页
• 分类号: O657
• 字数: 1809字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-9870.2008.03.030

摘要

以四叔丁基酞箐铟掺杂PMMA为基质材料,进行优化设计制备出光限幅器件,测试了该光限幅器件的光限幅性能,通过与单片未优化的酞菁铟的PMMA树脂片材性能的对比,可以看出在线性透过率相近的情况下,优化器件的光限幅性能有很大的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘大军	长春理工大学化学与环境工程学院	35	121	5.0	9.0
2	杨洪军		2	0	0.0	0.0
3	陈立新		2	2	1.0	1.0