高岭石/N-甲基甲酰胺插层复合物的制备

• 作者: 田春良
• 来源期刊: 信阳师范学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: N-甲基甲酰胺 高岭石 插层复合物
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 应用技术研究
• 页码范围: 115-117
• 页数: 3页
• 分类号: TQ132
• 字数: 1940字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-0972.2008.01.034

摘要

室温下,通过磁力搅拌制备高岭石/N-甲基甲酰胺(NMF)插层复合物.用XRD、FT-IR、TG-DSC分析插层前后特征基团和结构的变化.结果表明:NMF有机分子进入高岭石层间,在连续搅拌24 h后插层率为92%,层间距由0.71 nm膨胀为1.07 nm,随着反应时间的延长,插层率下降,但是其结构的有序度提高;插层后3 696 cm-1、3 668 cm-1、3 651 cm-1处峰强度变弱,3 619 cm-1基本不变,在1 638 cm-1和3 553 cm-1处出现新的吸收峰;TG-DSC分析表明在145℃左右有机分子分解,512℃左右失去结构水,1 000℃左右出现相转变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田春良	济宁学院化学系	9	14	2.0	3.0