LixMoS2的制备及其摩擦学特性

• 作者: SCHRAUBE Sebastian 刘敏 徐玉福 王琼杰 胡献国
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 插层 MoS2 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 181-184
• 页数: 4页
• 分类号: O611.6|TQ050.4
• 字数: 2820字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2008.02.012

摘要

采用正丁基锂直接插入法制备出不同插层程度的LixMoS2,并考察了插层反应温度、反应物摩尔量比和反应时间等因素对插层效果的影响. 结果发现,控制反应物n-C4H9Li与MoS2的摩尔比为5～9、插层反应温度为30 ℃左右,在机械搅拌下反应36～48 h制得LixMoS2,在水中剥层后能制得不同插层程度的MoS2悬浮液. 采用XRD对该悬浮液中的MoS2颗粒进行了表征. 结果发现,在LixMoS2中的x值越大制得的MoS2衍射峰宽化越严重,晶粒越小,晶形越差. 在四球摩擦磨损试验机考察了不同插层程度的MoS2悬浮液的摩擦学性能. 结果表明,x值在0.618～1.39范围的摩擦系数和磨斑直径均随着x值的变化先减小后增加,在x为0.75左右时,抗磨减摩性能达到最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐玉福	合肥工业大学摩擦学研究所	56	442	12.0	15.0
2	胡献国	合肥工业大学摩擦学研究所	117	1359	17.0	30.0
3	王琼杰	合肥工业大学摩擦学研究所	4	35	3.0	4.0
4	刘敏	合肥工业大学摩擦学研究所	9	20	2.0	4.0
5	SCHRAUBE Sebastian	合肥工业大学摩擦学研究所	1	1	1.0	1.0