纯钛镀制TiSiN薄膜后与光固化冠桥树脂结合强度的研究

• 作者: 于绍冰 尹路 越野 郭天文
• 来源期刊: 华西口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 纯钛 磁控溅射 光固化冠桥树脂
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 368-370
• 页数: 3页
• 分类号: R783.1
• 字数: 2313字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-1182.2008.04.008

摘要

目的 在纯钛表面磁控溅射镀制不同Si量的TiSiN膜后,比较纯钛与光固化冠桥树脂Solidex的结合强度,并对其界面进行分析.方法 制作3组纯钛试件,1组表面不作处理,另2组分别在不同硅质量分数(9%和19%)下应用磁控溅射设备涂层试样表面后烤塑,采用AGS万能材料试验机测试纯钛与Solidex的剪切结合强度,并应用电子探针显微分析仪和扫描电镜观察镀膜层一树脂界面的表面形貌和分析成分.结果 镀膜组结合强度优于未镀膜组(P＜0.05),镀膜组中提高的Si量增加了结合强度,镀膜组中形成致密非晶态TiN、SiN.结论 纯钛表面经磁控溅射镀制不同Si量的TiSiN膜后烤塑可以增加界面结合强度.镀膜组中形成的致密非晶态TiN、SiN填补了金属基底与Solidex烤塑专用树脂可能存在的空隙,有助于阻止金属离子渗出.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭天文	第四军医大学口腔医院修复科	110	1101	17.0	28.0
2	越野	第四军医大学口腔医院修复科	30	138	8.0	10.0
3	尹路	第四军医大学口腔医院修复科	14	139	7.0	11.0
4	于绍冰	第四军医大学口腔医院修复科	3	24	2.0	3.0