基于信息理论的成像系统干扰效果评估

• 作者: 张立 胡以华 赵福才 陶小红
• 来源期刊: 激光与红外
• 学科: 工学
• 关键词: 互信息量 熵 成像系统 干扰效果评估
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 光电对抗
• 页码范围: 371-374
• 页数: 4页
• 分类号: TN919.82
• 字数: 3001字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5078.2008.04.018

摘要

把信息熵应用于成像系统中,用端到端的互信息评价图像成像系统,研究成像系统的干扰设计方法.模拟系统设计参数,计算机仿真分析了三种性质的干扰对成像系统的影响,做出了基于互信息量的干扰效果仿真曲线.这对于光电对抗装备的研制、开发和效能评估具有一定的参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡以华		49	298	10.0	15.0
2	陶小红		10	49	5.0	6.0
3	赵福才		5	27	3.0	5.0