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摘要:
为了进一步减小光磁混合存储记录位尺寸,建立了用于光磁混合存储记录介质的超分辨近场结构膜层模型、近场光场模型及温度场模型,采用有限元方法对超分辨近场结构光磁混合存储介质记录层的温度场进行了计算模拟.计算小采用日的光磁混合记录介质膜层结构为C(2 nm)/Sb(10 nm)/SiN(10 nm)/CO75Cr15Pt10(30 nm).当写入温度为550 K时,随着入射激光功率的增加,光磁混合存储介质记录层温度场可写入区域面积增加.当激光功率从3.9 mW增至6.9 mW时,温度场可写入区域横向及纵向尺寸增加约1倍,记录密度减小至原记录密度的1/4.
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文献信息
篇名 超分辨近场结构光磁混合存储介质的温度场模拟
来源期刊 光学精密工程 学科 工学
关键词 超分辨近场结构 光磁混合存储介质 温度场
年,卷(期) 2008,(10) 所属期刊栏目 现代应用光学
研究方向 页码范围 1800-1804
页数 5页 分类号 TP333.41
字数 1737字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1004-924X.2008.10.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李震 华中科技大学电子科学与技术系 139 769 14.0 21.0
2 杨晓非 华中科技大学电子科学与技术系 69 652 12.0 24.0
3 李佐宜 华中科技大学电子科学与技术系 59 267 7.0 13.0
4 王昊 华中科技大学电子科学与技术系 21 59 4.0 7.0
5 程晓敏 华中科技大学电子科学与技术系 22 85 5.0 8.0
6 缪向水 华中科技大学电子科学与技术系 10 27 4.0 5.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
超分辨近场结构
光磁混合存储介质
温度场
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
月刊
1004-924X
22-1198/TH
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-166
1959
chi
出版文献量(篇)
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10
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98767
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