氦在bcc和fcc过渡金属中稳定性的理论研究

• 作者: 刘柯钊 杨莉 王小英 王治国 祖小涛
• 来源期刊: 电子科技大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: bcc过渡金属 密度泛函理论 fcc过渡金属 氦
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 物理电子学
• 页码范围: 558-560
• 页数: 3页
• 分类号: O483
• 字数: 2334字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0548.2008.04.022

摘要

采用基于密度泛函理论的从头算对bcc和fcc过渡金属中氯原子的稳定性进行了研究.计算结果表明,除了V和Nb外,不管是bcc还是fcc,氦都是在替换位置最稳定,对于间隙位置,在bcc过渡金属中,氦在四面体位置比八面体位置更稳定,而在fcc过渡金属中,间隙氮的稳定位置没有规律可循.对有磁性的bccFe和fcc Ni进行自旋和非自旋极化研究,发现金属的磁性对间隙氦的稳定位置没有直接的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祖小涛	电子科技大学物理电子学院	111	627	12.0	17.0
2	王治国	电子科技大学物理电子学院	20	92	6.0	7.0
3	王小英	中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室	11	45	4.0	6.0
4	刘柯钊	中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室	36	150	8.0	9.0
5	杨莉	电子科技大学物理电子学院	20	70	4.0	7.0