非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用

• 作者: 史光辉 张葆 洪永丰
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 红外辐射 杂散辐射 冷反射 100％冷阑效率 非均匀性校正
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 2421-2428
• 页数: 8页
• 分类号: TN216|TP391.4
• 字数: 4628字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2008.12.017

摘要

红外系统中常规的光机设计尚无法完全抑制杂散辐射,其残余的杂散辐射还可能引起图像异常.通过分析红外探测器非均匀性产生的原因,提出运用非均匀性校正的方法抑制红外杂散辐射,并给出了用两点温度标定法抑制杂散辐射的理论依据.对某型三档中波红外变焦系统进行了杂散辐射分析,TracePro红外辐射仿真分析表明:系统中残余的杂散辐射主要源自变焦过程中镜片移动引起的冷反射变化,两点温度校正后红外图像的非均匀性由0.066%降低到0.027%,成功消除了视场中的阴影,得到了满意的红外图像.实验结果证明,该方法能有效改善红外系统中残余杂散辐射引起的图像异常.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张葆	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	84	885	17.0	26.0
2	洪永丰	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	22	137	7.0	11.0
6	史光辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	6	53	4.0	6.0