PMMA人工晶状体表面的CF4/O2等离子体修饰

• 作者: 吴迪 张丽华 李雪娇 赵宝明 陈亚芍 黄长征
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: PMMA人工晶状体 CF4/O2 等离子体处理 生物相容性 透光性
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1854-1858
• 页数: 5页
• 分类号: O647.11
• 字数: 3834字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2008.09.029

摘要

为了改善聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)人工晶状体的生物相容性和透光性, 采用CF4/O2等离子体技术修饰其表面. 通过衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)、 X射线光电子能谱(XPS)、静态接触角(CA)测定、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见近红外光谱(UV-Vis)等方法进行表征, 结果表明, 经CF4/O2等离子体处理后, PMMA表面的含氟和含氧基团增加, 其表面的亲水性增强, 生物相容性改善, 紫外光的隔离效率增大. 因此, 通过CF4/O2等离子体修饰能够有效地改善PMMA人工晶状体的性质.