Al-Si合金表面制备ZrO2等离子体电解氧化涂层

• 作者: 刘道新 王萍
• 来源期刊: 特种铸造及有色合金
• 关键词: Al-Si合金 氧化锆 等离子体电解氧化 涂层
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1091-1094
• 页数: 4页
• 分类号: TG174|TG146.21
• 语种: 中文

摘要

采用等离子体电解氧化方法在Al-Si合金表面制备了氧化锆涂层.通过SEM、XRD研究了涂层的显微组织和相组成.结果表明,在氧化初期,涂层生长为典型的电化学极化控制的阳极沉积阶段,生长速率较快,且主要以向外生长为主;随处理时间的延长及涂层增厚,涂层生长速率有所降低,且主要以向内生长为主.涂层主要由t-ZrO2、m-ZrO2、α-Al2O3和γ-Al2O3组成,t-ZrO2为涂层的主晶相.随着氧化反应的进行,涂层表面由等离子体放电形成的微孔逐渐过渡为重复堆积的陶瓷颗粒,颗粒尺寸为1～2μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘道新	西北工业大学航空学院	120	1516	22.0	31.0
2	王萍	西北工业大学航空学院	15	81	6.0	8.0