PMMA/纳米SiO2纳米复合材料的制备和界面研究

• 作者: 何素芹 刘文涛 吴琳琳 朱诚身
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 工学
• 关键词: PMMA SiO2 纳米复合材料 界面
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 33-35
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 2852字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2008.05.013

摘要

用硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2进行修饰改性,采用原位分散聚合法制备了PMMA/纳米SiO2纳米复合材料,用溶解实验、力学性能、SEM和DMA等方法对纳米SiO2粒子和PMMA基体之间的界面相容性进行了表征和研究,由拉伸强度计算出来界面相互作用参数B.结果表明:SiO2在基体中可能起到了交联点的作用;改性后的氧化硅与聚合物基体形成强的界面结合;随着纳米粒子含量的增加,粒子和聚合物基体之间有效的界面相互作用越强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何素芹	郑州大学材料科学与工程学院	96	559	13.0	17.0
2	刘文涛	郑州大学材料科学与工程学院	96	393	11.0	14.0
3	朱诚身	郑州大学材料科学与工程学院	105	653	14.0	18.0
4	吴琳琳	郑州大学材料科学与工程学院	5	23	3.0	4.0