XeI* 准分子紫外光源的发光特性研究

• 作者: 代立新 李朝阳 林辉创 陈强
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 介质阻挡放电 准分子光源 XeI 转化效率
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 8-11,37
• 页数: 5页
• 分类号: O53
• 字数: 2918字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2009.01.002

摘要

采用石英做介质阻挡层,对高气压XeI* 准分子紫外光源进行了实验研究,从放电功率、放电频率、总气压、气体配比等参数分析了光源的工作特性,其最佳工作参数为总气压320Torr、I2分压0.37%,电源频率58.7kHz.在此条件下当放电电压4.6kV、功率66W时,在距光源8.5cm处得到的紫外光辐射强度为31.2μW/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈强	北京印刷学院等离子体物理与材料实验室	125	542	10.0	17.0
2	李朝阳	北京印刷学院等离子体物理与材料实验室	16	28	3.0	4.0
3	代立新	北京印刷学院等离子体物理与材料实验室	1	1	1.0	1.0
4	林辉创	北京印刷学院等离子体物理与材料实验室	1	1	1.0	1.0