微笔直写成型聚酰亚胺图形工艺研究

• 作者: 周良文 曹宇 曾晓雁 王小叶 金曦
• 来源期刊: 高分子学报
• 学科: 化学
• 关键词: 微笔 直写成型 聚酰胺酸 聚酰亚胺 微机电系统
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 489-492
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 2309字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3304.2009.05.014

摘要

选用均苯四甲酸二酐(PMDA)、4,4′-二氨基二苯醚(ODA)为单体,通过低温缩聚反应制备了PMDA-ODA型聚酰胺酸溶液,通过调节其黏度特性使之适合于微笔直写沉积工艺.采用微笔直写沉积PAA溶液和热亚胺化处理两步法制作出PI图形,并通过Au/PI微桥阵列结构实例显示了该工艺在MEMS聚合物牺牲层或结构层制造领域的应用潜力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾晓雁	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	144	2006	25.0	36.0
2	金曦	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	8	62	4.0	7.0
3	曹宇	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	9	98	5.0	9.0
4	王小叶	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	2	55	2.0	2.0
5	周良文	华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室	1	3	1.0	1.0