Bi/Bi2O<em>3</em>晶格复合热电薄膜的制备及其性能研究

• 作者: 尹程程 栾伟玲 涂善东 王迪
• 来源期刊: 纳米科技
• 学科: 工学
• 关键词: 热电材料 射频磁控溅射 薄膜 晶格复合结构
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 纳米加工工艺
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文

摘要

利用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备Bi/Bi2O3晶格复合热电薄膜,考察了溅射功率对单层Bi薄膜表面粗糙度和热电性能的影响,结果表明,当溅射功率为22W时,薄膜具有最小的表面粗糙度16.3 nm,电导率和功率因子分别为2.9×104 S/m和5.74 μV/km2,单层Bj薄膜最佳的工作温度为85～105℃.Bi/Bi2O3晶格复合热电薄膜最佳的溅射层数为5层,其电导率和功率因子分别为9.0×104 S/m和21.0 μV/k2m,分别比单层Bi薄膜提高了2.1倍和2.65倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	涂善东	华东理工大学机械与动力工程学院	224	2191	25.0	36.0
2	栾伟玲	华东理工大学机械与动力工程学院	29	395	7.0	19.0
3	尹程程	华东理工大学机械与动力工程学院	1	0	0.0	0.0
4	王迪	华东理工大学机械与动力工程学院	1	0	0.0	0.0