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无支架荫罩双层黑化工艺研发
无支架荫罩双层黑化工艺研发
作者:
李建彬
雷向龙
高康明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
荫罩
黑化支架
双层黑化
荫罩黑化膜厚度
摘要:
本文主要介绍了一种新的荫罩黑化方法,去掉了以前使用的荫罩黑化支架,直接将2枚荫罩摞放在一起,然后放置在黑化炉网带上进入黑化炉进行黑化。此外,本文还论述了荫罩实现无支架双层黑化以后带来的荫罩黑化膜厚度偏薄问题的解决方法。
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文献信息
篇名
无支架荫罩双层黑化工艺研发
来源期刊
显示器件技术
学科
工学
关键词
荫罩
黑化支架
双层黑化
荫罩黑化膜厚度
年,卷(期)
2009,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
18-21
页数
4页
分类号
TN141.32
字数
语种
DOI
五维指标
作者信息
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姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
雷向龙
1
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2
高康明
1
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李建彬
1
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2009(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
荫罩
黑化支架
双层黑化
荫罩黑化膜厚度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
显示器件技术
主办单位:
彩虹集团公司
出版周期:
季刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
陕西咸阳3号信箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
1151
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4
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