氧化钨纳米线薄膜的制备和分析

• 作者: 陈毅湛
• 来源期刊: 五邑大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化钨纳米线 热蒸发 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 26-30
• 页数: 5页
• 分类号: O614.24|O657
• 字数: 1554字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7302.2009.01.007

摘要

报道了采用热蒸发方法制备氧化钨纳米线薄膜的实验.结果表明:改变蒸发源温度和衬底温度,氧化钨纳米线的生长存在一定的规律性.即随着蒸发源温度的升高,氧化钨纳米线的直径逐渐增加,且直径的增长速度比高度的增长速度快;随着衬底温度的升高,氧化钨纳米线的高度也逐渐增加,高度的增长速度比直径的增长速度快.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈毅湛	五邑大学数理系	11	13	2.0	2.0