准分子激光电化学复合工艺中热-力效应研究

• 作者: 龙芋宏
• 来源期刊: 应用激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 激光电化学 热-力效应 刻蚀 硅
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 页码范围: 303-308
• 页数: 6页
• 分类号: TG665
• 字数: 4455字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-372X.2009.04.008

摘要

为了探寻准分子激光电化学刻蚀硅工艺中的热-力效应特性,采用功率密度大的248nm准分子激光聚焦照射浸在KOH溶液中的n-Si表面,实现了一种激光电化学复合刻蚀工艺.通过数值仿真与实验比较的方法,对该工艺的刻蚀速率进行了分析.研究结果表明,该复合工艺存在激光直接刻蚀、电化学刻蚀和激光与电化学耦合刻蚀等三种刻蚀作用;在耦合作用中,溶液中激光加工的热效应较小,光热效应导致的刻蚀小;而溶液中激光加工的力学效应对材料的刻蚀作用很大.通过对准分子激光与溶液中靶材相互作用过程的热-力效应分析,更深入地探讨了准分子激光电化学工艺的刻蚀机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙芋宏	桂林电子科技大学机电工程学院	27	93	4.0	8.0