热处理对BiOx薄膜的组成和结构的影响

• 作者: 蒋志
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铋 薄膜 热处理 X射线光电子能谱 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 3-7
• 页数: 5页
• 分类号: O484|T581
• 字数: 3096字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2009.05.001

摘要

采用反应磁控溅射法在氧气和氩气比例为20:100的混合气体中制备了非化学计量的氧化铋薄膜.薄膜分别在真空和空气中400℃退火30min.采用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)研究了薄膜在真空和空气中退火对其组成和结构的影响.分析表明,在真空退火条件下薄膜中的金属铋和次氧化铋发生了相变,金属铋晶粒长大;而在空气中退火时薄膜主要发生了金属铋和次氧化铋的氧化过程,得到了四方Bi2O3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋志		5	6	2.0	2.0