含阴离子官能团物质与蒙脱土的相互作用研究

• 作者: 姚康德 郑俊萍 郝慧 陈昌策
• 来源期刊: 化学工业与工程
• 学科: 化学
• 关键词: 阴离子 蒙脱土 插层 相互作用
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 10-14
• 页数: 5页
• 分类号: O648
• 字数: 2800字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-9533.2009.01.003

摘要

通过研究不同电荷状态的含阴离子官能团物质与蒙脱土(MMT)复合物的插层情况来研究阴离子官能团与MMT的相互作用,利用FT-IR、XRD和NMR等手段对反应产物进行表征,以确定阴离子官能团与MMT的作用机理和作用位点.试验结果表明,羧酸基团与MMT有很强的相互作用.羧酸基团与MMT发生作用的位点是(-COO-)上的羰基(-C=O),它与MMT上的(-OH)或Al3+发生作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚康德	天津大学材料科学与工程学院	189	4327	37.0	55.0
2	郑俊萍	天津大学材料科学与工程学院	19	271	9.0	16.0
3	郝慧	天津大学材料科学与工程学院	1	5	1.0	1.0
4	陈昌策	天津大学材料科学与工程学院	1	5	1.0	1.0