磁流变抛光过程的材料去除三维模型

• 作者: 宋辞 彭小强 戴一帆 石峰
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 磁流变抛光 Bingham流体 磁流变液 材料去除三维模型
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 机械科学
• 页码范围: 644-648
• 页数: 5页
• 分类号: TH164
• 语种: 中文

摘要

充分考虑磁流变液的Bingham流体特性,对抛光区域磁流变液在梯度磁场作用下的成核状态进行了理论分析与数值计算.在此基础上,根据磁流变抛光过程以剪切力为主、压力为辅的材料去除机理,计算出抛光区域剪切力与压力的数值分布,拟合出剪切力与压力对材料去除的影响因子曲面,建立了磁流变抛光的材料去除三维数学模型.在自制的磁流变抛光机床上进行了实验验证,实验结果和数学模型有较好的一致性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆		64	1121	16.0	32.0
2	彭小强		26	313	10.0	17.0
3	石峰		14	144	6.0	12.0
4	宋辞		8	56	3.0	7.0