有机蒙脱土的制备及表征

• 作者: 崔会旺 杜官本
• 来源期刊: 化工矿物与加工
• 学科: 工学
• 关键词: OMMT 衍射角0 层间距d(001)
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 14-17
• 页数: 4页
• 分类号: TD975
• 字数: 2974字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-7524.2009.03.005

摘要

利用实验室常规条件,分别采用十二烷基三甲基溴化铵(DTAB)、十四烷基三甲基溴化铵(TTAB)和十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)和蒙脱土(MMT)制备有机蒙脱土(OMMT).X-射线衍射(XRD)表明:季铵盐阳离子进入到了MMT晶片层问,MMT晶片层被撑开,在用量为100～150 mmol/100 g MMT时,由DTAB、TTAB、CTAB制备的OMMT的衍射角0和层间距d(001)分别为2.43-2.45°、2.41～2.43°、2.24～2.28°和1.803-1.819 nm、1.819-1.833nm、1.938～1.973 nm,比MMT的0 3.50°和d(001)1.263 nm大为改善;傅里叶变换红外光谱(FTIR)表明,MMT和.DDAB、TTAB、CTAB之间没有化学键合作用,只有物理作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜官本		67	998	20.0	28.0
2	崔会旺		26	226	9.0	14.0