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摘要:
以不锈钢为基体,采用连续阴极电沉积的方法,制备了ZnO/Cu2O复合膜,并通过 X-射线衍射和扫描电镜进行了表征.以Cr(Ⅵ)为模拟无机污染物,在可见光下,测试了其光催化还原活性.结果表明,ZnO/Cu2O复合膜的光催化活性与Cu2O的沉积量有关,在其沉积量为0.010 g/dm2时,反应1h后,Cr(Ⅵ)在ZnO/Cu2O上的还原率为35.3%,而在Cu2O薄膜上的还原率仅为8.6%.实验还发现,ZnO/Cu2O复合膜的光催化氧化能力也有了较大程度的提高.在相同实验条件下,甲基橙在Cu2O薄膜上的降解率只有2.5%,而在ZnO/Cu2O复合膜上的降解率达到22.9%.
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文献信息
篇名 ZnO/Cu2O复合膜的制备及其光催化活性研究
来源期刊 电镀与精饰 学科 工学
关键词 氧化锌 氧化亚铜 复合膜 电沉积 光催化活性
年,卷(期) 2009,(12) 所属期刊栏目 论文
研究方向 页码范围 5-8,18
页数 5页 分类号 TG174.45
字数 2292字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3849.2009.12.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 魏守强 沈阳理工大学环境与化学工程学院 23 255 8.0 15.0
2 刘瑛 沈阳理工大学环境与化学工程学院 14 106 7.0 9.0
3 马玉燕 沈阳理工大学环境与化学工程学院 4 32 3.0 4.0
4 陈玉叶 沈阳理工大学环境与化学工程学院 4 32 3.0 4.0
5 侯微 沈阳理工大学环境与化学工程学院 1 18 1.0 1.0
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电镀与精饰
月刊
1001-3849
12-1096/TG
大16开
天津市河东区新开路美福园2号楼1门102
18-145
1973
chi
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