强磁场下蒸镀法制备Co3O4薄膜

• 作者: 刘伟 李丘林 陈晓 陈鹏
• 来源期刊: 清华大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 蒸镀 Co3O4 强磁场 晶粒尺寸 取向
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与技术
• 页码范围: 440-442
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1|O484.4+3
• 语种: 中文

摘要

为了研究强磁场对蒸镀法制备Co3O4薄膜结构影响,以提高该材料的取向性,改善Co3O4薄膜的磁学性能,该文以99.99%的Co为原料,分别在无磁场和强磁场条件下低真空热蒸镀Co3O4薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射和振动样品磁强计研究了以Si(111)为基底的Co3O4薄膜晶粒尺寸、取向和磁性能.结果表明:随着磁场强度增加至4T,晶粒尺寸由200am减至20am,晶体由杂乱取向排列转为平行于磁场方向取向生长,薄膜的矫顽力减小,矩磁比增大至0.81.结果表明:强磁场对蒸镀法制备Co3O4薄膜晶粒的大小和取向有显著影响,能显著提高材料的矩磁比.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘伟		109	766	14.0	22.0
2	陈晓		53	1196	13.0	34.0
3	李丘林		22	92	7.0	9.0
4	陈鹏		17	174	5.0	13.0