基于三次样条插值的IRFPA非均匀性校正算法

• 作者: 刘上乾 李恩科 殷世民 王炳健
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 红外焦平面阵列 非均匀性校正 三次样条插值
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 图像与信号处理
• 页码范围: 3016-3020
• 页数: 5页
• 分类号: TN215
• 字数: 2419字
• 语种: 中文

摘要

针对红外成像制导跟踪系统工程应用的实际要求,对红外焦平面阵列工作在大动态范围条件下的非均匀性校正算法进行了深入研究,依据函数插值原理,导出了三次样条插值非均匀性校正算法.用模拟的非均匀性图像和实际的红外图像对算法进行了校验.结果表明该算法具有动态范围大、校正准确度高的优点,可对红外焦平面阵列实现非均匀性和非线性双重校正效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘上乾	西安电子科技大学技术物理学院	128	1852	22.0	36.0
2	殷世民	西安电子科技大学技术物理学院	16	437	10.0	16.0
3	王炳健	西安电子科技大学技术物理学院	35	600	15.0	24.0
4	李恩科	西安电子科技大学技术物理学院	19	160	8.0	12.0