动力学研究AlN/α-Al2O3(0001)薄膜生长初期的吸附与扩散

• 作者: 余毅 冯玉芳 杨春
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: α-Al2O3(0001)表面 扩散 吸附生长 从头计算分子动力学
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 3553-3559
• 页数: 7页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.05.108

摘要

采用基于第一性原理的从头计算分子动力学方法,计算了300-800℃下AlN吸附过程与系统能量、动力学轨迹以及扩散系数.研究表明,吸附过程由物理吸附、化学吸附和表面稳定态三个阶段组成,在吸附成键过程中,温度越高,粒子平均表面扩散能力增强.N原子的扩散系数大于Al原子的扩散系数,尤其是在物理吸附阶段.在较高温度条件下(大于700℃),N的解吸附作用明显增强,不利于AlN的稳定吸附生长,500-700℃之间的温度有利于AlN在α-Al2O3(0001)表面的稳定吸附生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨春		35	313	10.0	16.0
5	冯玉芳		4	21	2.0	4.0