CF4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究

• 作者: 刘洋 周克省 闻立时 雷明凯 高松华
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 硅橡胶 容性耦合等离子体 表面改性 XPS
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 79-81
• 页数: 3页
• 分类号: TB383|TQ333.93
• 字数: 2397字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2009.01.022

摘要

利用CF4射频容性耦合等离子体对硅橡胶进行表面双疏改性,用XPS技术分析了处理后硅橡胶表面成分变化,并利用接触角测量研究了表面疏水疏油改性效果.结果表明,CF4射频容性耦合等离子体通过等离子体表面氟化和剥离或刻蚀的相互竞争作用在硅橡胶表面引入大量硅氟基团和少量碳氟基团,两者协同作用使硅橡胶的疏水疏油性能得到大幅提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周克省	中南大学物理科学与技术学院	77	947	12.0	28.0
2	闻立时	中南大学物理科学与技术学院	117	1859	24.0	36.0
5	雷明凯	大连理工大学材料科学与工程学院表面工程研究室	115	712	14.0	19.0
6	刘洋	大连理工大学材料科学与工程学院表面工程研究室	46	269	10.0	14.0
13	高松华	中南大学物理科学与技术学院	7	69	6.0	7.0