G.657光纤的制备及其性能

• 作者: 刘利 张立永 陈海斌
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光纤光学 G.657光纤 全合成工艺
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 光纤光学与光通信
• 页码范围: 1471-1475
• 页数: 5页
• 分类号: TN818
• 字数: 3084字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS20092906.1471

摘要

G.657光纤具有优异的弯曲损耗不敏感性能.被认为是诸如光纤到户(FTTH)等局域网和接入网系统的首选产品,因此,该光纤的研究倍受重视.提出了一种采用全合成工艺制造G.657光纤的方法,详细探讨丫芯层和第一包层区的厚度(a,b)及其折射率差(△1、△2)与光纤性能之间的关系.研究表明,当α的取值在3.5～4.0 μm之间,b的取值在0.5～1.9μm之间,△1的取值在0.0034～0.0045之间,△2的取值在-0.0006～0之间时,可制得满足ITU.T G.657.A标准的光纤;当α的取值在2.8～3.2μm之间,b的取值在0.8～2.1 μm之间,△1的取值在0.0058～0.0072之间,△2的取值在-0.0016～-0.0008之间,可制得满足ITU.T G.657.B标准的光纤.且该光纤在结构上相对简单,无特殊设计的沟、槽、孔,因此制作工艺相对容易、稳定,易于推广和应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张立永		26	150	6.0	12.0
2	刘利		2	12	2.0	2.0
3	陈海斌		2	14	2.0	2.0