基于三(8-羟基喹啉)铝的紫外增强薄膜研究

• 作者: 倪争技 庄松林 张大伟 田鑫 黄元申
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 紫外响应增强技术 三(8-羟基喹啉)铝 光致发光 真空蒸镀 硅基成像器件
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 生物化学类传感器
• 页码范围: 461-464
• 页数: 4页
• 分类号: YN247|O433
• 字数: 2883字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2009.04.004

摘要

为了提高硅基成像器件的紫外响应,本文通过对Alq3发光机理与光致发光特性的研究,用真空蒸镀的方法制备出了基于Alq3的有机金属薄膜.通过测量Alq3薄膜的透过率、光致发光光谱和激发光谱,发现Alq3薄膜在可见波段有很好的透过性,用紫外光激发会产生较强的绿光(中心波长位于510 nm),且激发光谱宽(250～425 nm).结论表明Alq3薄膜的发射光谱能够与传统硅基成像器件的响应光谱匹配,是一种符合实际要求的紫外增强薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	117	391	11.0	15.0
2	庄松林	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	199	1335	20.0	29.0
3	田鑫	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	9	34	3.0	5.0
4	黄元申	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	56	348	11.0	16.0
5	倪争技	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	43	341	12.0	17.0