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方柱微结构表面上FC-72的流动沸腾强化换热实验研究
方柱微结构表面上FC-72的流动沸腾强化换热实验研究
作者:
方嘉宾
袁敏哲
马爱香
魏进家
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
流动沸腾
芯片冷却
方柱微结构
FC-72
摘要:
为了提高电子器件的冷却效率,研究了不导电介质FC-72在表面加工有方柱微结构的模拟芯片上的流动沸腾强化换热性能.采用了两种方柱微结构,其边长均为30μm,但高度分别为60μm和120 μm.方柱微结构芯片与光滑芯片相比显示出较好的强化沸腾换热效果,且增加方柱高度可有效提高流动沸腾强化换热性能.方柱微结构芯片的临界热流密度随着流速和过冷度的增大而增大,且到达临界热流密度(CHF)时芯片的表面温度低于芯片回路正常工作的上限温度85℃.
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内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
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期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
方柱微结构表面上FC-72的流动沸腾强化换热实验研究
来源期刊
工程热物理学报
学科
工学
关键词
流动沸腾
芯片冷却
方柱微结构
FC-72
年,卷(期)
2009,(8)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1324-1326
页数
3页
分类号
TQ051.5
字数
2912字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-231X.2009.08.018
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
魏进家
西安交通大学动力工程多相流国家重点实验室
76
416
11.0
18.0
2
方嘉宾
西安交通大学动力工程多相流国家重点实验室
6
49
2.0
6.0
3
马爱香
西安交通大学动力工程多相流国家重点实验室
2
11
2.0
2.0
4
袁敏哲
西安交通大学动力工程多相流国家重点实验室
1
7
1.0
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引证文献(0)
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2019(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
2020(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
流动沸腾
芯片冷却
方柱微结构
FC-72
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
工程热物理学报
主办单位:
中国工程热物理学会
中国科学院工程热物理研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
0253-231X
CN:
11-2091/O4
开本:
大16开
出版地:
北京中关村路乙12号(北京2706信箱)
邮发代号:
2-185
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
8640
总下载数(次)
13
总被引数(次)
72115
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