丝裂霉素C在Epi-LASIK术矫正高度和超高度近视中的应用

• 作者: 周浩东 姜德咏
• 来源期刊: 国际眼科杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 丝裂霉素C 机械法-准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术 haze 视力回退
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 临床论著
• 页码范围: 743-745
• 页数: 3页
• 分类号: R77
• 字数: 3514字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-5123.2009.04.042

摘要

目的:观察丝裂霉素C(mitomycin C,MMC)应用于机械法-准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术(epipdisaser in situ keratomileusis, Epi-LASIK)术矫正高度和超高度近视中的疗效.方法:将高度和超高度近视204例408眼随机分为两组,MMC组102例204眼;对照组102例204眼.所有手术皆运用AMO Amadeus II Microkeratome直线式角膜上皮刀制作角膜上皮瓣,MMC组术中激光切削后置0.2g/L MMC棉片于基质床60-90s;对照组除不置MMC外余操作相同.术后随访两组角膜上皮瓣愈合时间、术后刺激症状、haze反应及裸眼视力.结果:所有患者均顺利完成手术.MMC组和对照组Epi-LASIK术后刺激症状皆轻微,316眼(77.4%)疼痛评分为0～1分.角膜上皮瓣愈合时间为3～6d.术后6mo查MMC组中199眼(97.5%)UCVA达到并超过BCVA;对照组168眼(82.4%)UCVA达到并超过BCVA;MMC组视力回退者5眼(2.5%),对照组视力回退者36眼(17.6%).术后6mo haze反应MMC组与对照组对比,haze 2级及haze 2级以上差异有显著性(P<0.05),有统计学意义.结论:Epi-LASIK术矫正高度和超高度近视中应用0.2g/L MMC对减轻haze的形成、防止视力回退安全有效.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜德咏	中南大学湘雅附属第二医院眼科	99	515	10.0	17.0
2	周浩东		5	8	2.0	2.0