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创新未来 2009秋季IDF看点解读
创新未来 2009秋季IDF看点解读
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
秋季
制造工艺
未来
片上系统
展示
处理器
摩尔定律
芯片组
英特尔
纳米技术
摘要:
2009年秋季英特尔信息技术峰会(Intel Developer Forum,IDF)于9月22日至24日在美国旧金山Moscone Center West会展中心举行.由于经济形势的影响,Intel今年取消了台北IDF,北京IDF会期也被缩短至一天.在这样的情况下,旧金山秋季IDF无异就成了Intel全年中的唯一重头展会.展会上展示了大量Intel新产品,以及未来产品和技术的规划.
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篇名
创新未来 2009秋季IDF看点解读
来源期刊
电脑迷
学科
经济
关键词
秋季
制造工艺
未来
片上系统
展示
处理器
摩尔定律
芯片组
英特尔
纳米技术
年,卷(期)
2009,(20)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
28-29
页数
2页
分类号
F416.671
字数
语种
中文
DOI
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2009(0)
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秋季
制造工艺
未来
片上系统
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处理器
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芯片组
英特尔
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
电脑迷
主办单位:
电脑报社
出版周期:
旬刊
ISSN:
1672-528X
CN:
50-1163/TP
开本:
16开
出版地:
重庆市渝中区双钢路3号科协大厦1202(武汉市洪山区珞狮北路2号樱花大厦A座15楼 430070)
邮发代号:
78-230
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
29651
总下载数(次)
121
总被引数(次)
8479
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