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摘要:
根据计算机控制磁流变抛光的去除机理,分析了抛光工艺软件的去除算法核心问题即求解驻留时间函数和加工路径设计.采用简森-范锡图特法对驻留时间函数进行迭代求解,同时优化设计工艺软件的加工路径算法,开展工艺软件全过程模块化、流程化设计,完成工艺软件的代码集成测试.最后,通过工艺软件控制磁流变抛光330mm×330mm石英平面反射镜实验,验证去除算法控制抛光过程的有效性及准确性,实验值与理论值吻合良好,从而证实工艺软件去除算法能够准确、有效地指导大口径光学元件的磁流变加工.
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文献信息
篇名 计算机控制磁流变抛光软件去除算法设计
来源期刊 信息与电子工程 学科 工学
关键词 计算机控制光学表面成形技术 磁流变抛光技术 去除算法 驻留时间函数 加工路径
年,卷(期) 2010,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 616-619
页数 分类号 TN911.7|TP273
字数 2103字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-2892.2010.05.025
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李海波 8 34 3.0 5.0
2 袁志刚 9 57 6.0 7.0
3 郑楠 4 29 3.0 4.0
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计算机控制光学表面成形技术
磁流变抛光技术
去除算法
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双月刊
2095-4980
51-1746/TN
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62-241
2003
chi
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