CdZnS半导体颜料涂层红外发射率的研究

• 作者: 孙国亮 郑文伟 陈韬文
• 来源期刊: 化学工业与工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 共沉淀法 CdZnS 工艺条件 红外发射率
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 15-17
• 分类号: TN219
• 字数: 2095字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7906.2010.05.005

摘要

以Cd(CH3COO)2, Zn(CH3COO)2, Na2S等为原料,通过共沉淀法制备CdZnS半导体颜料,用XRD, EDS, SEM等手段对颜料结构、成分、形貌进行了表征.研究了烧结温度和掺杂含量对CdZnS半导体颜料涂层红外发射率的影响.结果表明,烧结温度和掺杂含量对半导体颜料涂层光学性能有决定性作用,通过调配工艺条件可以获得较低的颜料涂层红外发射率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑文伟	国防科技大学航天与材料工程学院	84	1014	18.0	27.0