临界电流密度的非均匀分布对高温超导体中磁通跳跃的影响

• 作者: 何天虎 赵玉峰
• 来源期刊: 低温物理学报
• 关键词: 临界电流密度的非均匀分布 磁通跳跃 磁通钉扎 高温超导体
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 395-400
• 页数: 6页
• 语种: 中文

摘要

基于高温超导体热磁相互作用机制,建立反映临界电流密度的非均匀分布效应的简化模型,研究了临界电流密度的非均匀分布效应对磁化曲线和磁通跳跃的影响.在绝热磁通跳跃理论的基础上引进了外磁场变化速率对磁通跳跃的影响,推导出能够精确预测磁通跳跃场大小的递推公式.根据临界态模型计算了超导样品的磁化曲线和磁通跳跃现象,确定了初次磁通跳跃场的环境温度和外磁场变化速率的有效范围,并且发现非均匀分布模型下的磁通跳跃场明显小于均匀分布模型的跳跃场.结果表明,对于初次磁通跳跃场,本文的理论预测结果和实验结果基本上一致,尤其和数值模拟的结果在很大的范围内有很好的吻合.临界电流密度的非均匀分布效应确实能够降低磁通跳跃场,加剧高温超导体中的磁通跳跃不稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何天虎		33	74	6.0	7.0
2	赵玉峰		10	2	1.0	1.0