原位插层聚合制备硅树脂/蒙脱土纳米复合材料

• 作者: 刘政 曹顺生 朱恩波 李小辉 胡杰 袁新华
• 来源期刊: 江苏大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 蒙脱土 硅树脂 原位插层聚合 纳米复合材料 制备 表征
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 165-169
• 页数: 5页
• 分类号: TB332
• 字数: 3751字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7775.2010.02.009

摘要

用十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)做有机化处理剂,通过原位插层聚合法制备了甲基苯基硅树脂/有机蒙脱土(OMMT)纳米复合材料.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)等手段研究了复合材料内部结构,同时测试了复合材料力学性能、耐高温性能及气液阻隔性能.研究结果表明:硅树脂的分子链插层进入了OMMT层间,完全破坏其重复片层结构,形成剥离型纳米复合材料;OMMT质量分数为8%时,复合材料在750 ℃下仅失重25%,且具有较好的气液阻隔性能;OMMT质量分数为6%时,复合材料拉伸强度为6.264 MPa,是纯硅树脂的5倍;OMMT质量分数为4%时,压缩强度11.503 MPa,是纯硅树脂的4倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁新华	江苏大学材料科学与工程学院	64	509	13.0	19.0
2	胡杰	江苏大学材料科学与工程学院	36	241	9.0	13.0
3	曹顺生	江苏大学材料科学与工程学院	14	108	7.0	9.0
4	朱恩波	江苏大学材料科学与工程学院	2	13	2.0	2.0
5	李小辉	江苏大学材料科学与工程学院	3	18	3.0	3.0